Krem Przeciwsłoneczny Spf50+ Pa++++ Kolagen + Kwas Hialuronowy 100ml

SUN CREAM SPF50+/PA++++ KOLAGEN + KWAS HIALURONOWYTechnologia filtrów SPF 50+ PA+++ zapewnia wysoki poziom ochrony przed szkodliwym promieniowaniem UVA.

Odpowiednia ochrona przed fotostarzeniem, przebarwieniami i oparzeniami słonecznymi to klucz do pięknej, zdrowej skóry na długi czas.

Po zastosowaniu skóra będzie naturalnie czysta, delikatna i gładka.

Wodoodporny, łagodny i nie zatyka porówKrem przeciwsłoneczny z kwasem hialuronowym nie tylko chroni skórę przed agresywnym działaniem promieni słonecznych, jednocześnie pomaga zachować jędrność, elastyczność, jednolity koloryt i odcień skóry. Nadaje cerze gładkość i aksamitną delikatność. Doskonale odświeża i nawilża skórę, zapobiegając jej przesuszaniu.

Kosmetyk posiada lekką formułę, która szybko się wchłania, nie pozostawiając tłustego filmu na skórze.

Doskonalesprawdza sięjako baza pod makijaż.

PA ++++ = Bardzo wysoka ochrona przed promieniowaniem UVA.

Sposób użycia:Nałóż krem na twarz, szyję i dekolt, ramiona i nogi około 30 minut przed ekspozycją na słońce.

W przypadku stałej ekspozycji na słońce nałóż ponownie krem po ok 2 godzinach.

Krem możesz stosować również jako ostatni etap pielęgnacji, tuż przed nałożeniem makijażu.

DATA WAŻNOŚCI: 09.08.2027r.

SKŁADNIK:Woda, Kolagen, Glicerol, Palmitynian etyloheksylu, polidimetylosiloksanol, dwutlenek tytanu, polidimetylosiloksan, akrylan hydroksyetylu/kopolimer akrylodimetylotauryny sodu, olej z nasion makadamii, ester poliglicerolu-6, ester behenianowy. Glikol propylenowy, kopolimer akrylanu sodu/akrylodimetylotauryny, silan trietoksyoktylu, wodorotlenek glinu, esencja, mocznik imidazolidylowy, izoheksadekan, hydroksybenzoesan metylu, ester cetylofosforanu potasu, polieter laurylowy-6, ester polisorbitolu-80, karbaminian butylu alkoholu lopropargilowego.

Środki ostrożności:W przypadku podrażnienia przerwij stosowanie i skonsultuj się z lekarzem.

Używaj tylko zgodnie z zaleceniami na nieuszkodzonej skórze.

Trzymaj poza zasięgiem dzieci.