Shiseido Synchro Skin Self Refreshing długotrwały podkład 350 Maple 30 ml

Shiseido Synchro Skin Self Refreshing długotrwały podkład 30 ml - 350 - MaplePierwszy podkład SHISEIDO , który samoczynnie odświeża się bez przerwy dzięki technologii ActiveForce™. Nasz trwały podkład w płynie synchronizuje się ze skórą i pomaga chronić przed wysoką temperaturą, wilgocią, sebum i ruchami twarzy, aby zachować świeżo nałożone, nieskazitelne wykończenie, które utrzymuje się przez 24 godziny. Lekki. Oddychająca. Do zbudowania kryciaTechnologia ActiveForce™ to nasz ekskluzywny kompleks, który chroni Twoje nieskazitelne wykończenie przed skutkami potu, sebum i ruchów twarzy.

Technologia Responsive Sensory dostosowuje się do stanu, kolorytu i tekstury skóry, zapewniając prawdziwsze rozświetlenie.

Wyciąg z dzikiego tymianku zapewnia korzyści przeciwutleniające.

Polimer ochronny o właściwościach antyadhezyjnych pomaga zapobiegać przywieraniu zanieczyszczeń do skóry.

Opatentowany przez firmę SHISEIDO inteligentny puder korygujący poprawia strukturę i koloryt powierzchni skóry.

Pojemność: 30 mlIngredienti/Lista SkładnikówACTIVE INGREDIENTS: Purpose OCTINOXATE 4.9% ･････ Sunscreen TITANIUM DIOXIDE 5.8% ･････ Sunscreen INACTIVE INGREDIENTS:DIMETHICONE･WATER･GLYCERIN･TRIFLUOROPROPYLDIMETHYL/TRIMETHYLSILOXYSILICATE･PEG-10 DIMETHICONE･BUTYLENE GLYCOL･PHENYL TRIMETHICONE･DIMETHICONE CROSSPOLYMER･BIS-BUTYLDIMETHICONE POLYGLYCERYL-3･SORBITAN SESQUIISOSTEARATE･ISOPROPYL MYRISTATE･DIMETHICONE/VINYL DIMETHICONE CROSSPOLYMER･NACRE POWDER･MAGNESIUM ALUMINOMETASILICATE･POLYQUATERNIUM-51･THYMUS SERPYLLUM EXTRACT･SODIUM ACETYLATED HYALURONATE･ALUMINUM HYDROXIDE･STEARIC ACID･CYCLOPENTASILOXANE･DISTEARDIMONIUM HECTORITE･POLYMETHYLSILSESQUIOXANE･POLYSILICONE-2･TRIMETHYLSILOXYSILYLCARBAMOYL PULLULAN･LITHIUM MAGNESIUM SODIUM SILICATE･PEG/PPG-19/19 DIMETHICONE･CITRIC ACID･SODIUM CITRATE･BHT･SILICA･TOCOPHEROL･PHENOXYETHANOL･TITANIUM DIOXIDE･IRON OXIDES･MICA･Produkt jest w oryginalnym opakowaniu, świeży, nowy.

W PEŁNI GWARANTUJEMY ORYGINALNOŚĆ PRODUKTU!!!!!!